021-54286005
Leica DCM8激光共聚焦顯微鏡
全面了解3D表面測量學(xué)
全面了解
3D表面測量學(xué)
在工業(yè)和研究中,高精度表面分析發(fā)揮著(zhù)至關(guān)重要的作用,它可以幫助確保材料和組件實(shí)現性能,但同時(shí)也面臨著(zhù)諸多挑戰:表面結構錯綜復雜,高傾斜度區域要求橫向分辨率達到數微米,而關(guān)鍵性微觀(guān)峰谷要求垂直分析達到亞納米級。雖然共聚焦顯微技術(shù)可以提供高橫向分辨率,但要實(shí)現亞納米級垂直分辨率,則需要干涉測量技術(shù)。
因此,我們將這兩種測量技術(shù)相結合,推出了多功能超高速3D表面測量系統 Leica DCM8—為您的所有測量觀(guān)察任務(wù)提供一站式解決方案。
優(yōu)勢概覽:
功能多樣,精確性高—滿(mǎn)足您的表面測量需求
• 通過(guò)高清(HD)共聚焦顯微技術(shù)實(shí)現橫向分辨率、斜率求解和成像
• 通過(guò)高清干涉測量技術(shù)實(shí)現高達0.1 nm的縱向分辨率
• 通過(guò)明場(chǎng)和暗場(chǎng)顯微鏡方便地實(shí)現圖像攝取
• 四盞RGB高清彩色成像LED,應用范圍更廣
• 可使用三種方法測量厚薄不同的薄膜
• 配置和物鏡適用于您的樣品
快速、簡(jiǎn)單、耐用 — 省時(shí)省力,節省資金,實(shí)現準確結果
• 無(wú)需準備樣品或切換儀器
• 數字高清共聚焦掃描快速、可靠
• 通過(guò)大視場(chǎng)和形貌拼接快速攝取大表面
• 直觀(guān)的2D和3D軟件,適用于數據采集和分析
功能多樣,精確性高 — 滿(mǎn)足您的表面測量需求
Leica DCM8將高清共聚焦顯微技術(shù)和干涉測量技術(shù)融合在一起,更添加了豐富的附加功能,使各種材料表面特性的精確再現變得便利起來(lái)。為滿(mǎn)足您的記錄需求,系統的內置百萬(wàn)像素CCD攝像頭和4個(gè)LED光源提供非同凡響的真彩成像功能。
通過(guò)高清共聚焦顯微技術(shù)實(shí)現橫向分辨率
通過(guò)共聚焦技術(shù),即使表面有著(zhù)高達70°陡峭斜面或復雜形狀,也可以快速精確地繪制出輪廓 — 且不會(huì )破壞樣品。Leica DCM8中心內置140萬(wàn)像素高分辨率、高靈敏度檢測器,可以查看共聚焦實(shí)時(shí)圖像,或同時(shí)查看共聚焦和明場(chǎng)圖像?旖莴@取全面的表面數據以及高對比度對焦圖像。另外,RGB共聚焦模式可實(shí)時(shí)提供高度分布,快捷程度令人驚嘆。
快捷
只需點(diǎn)擊按鈕,即可完成對樣品的垂直掃描,讓表面上的每個(gè)點(diǎn)都經(jīng)過(guò)焦點(diǎn)。在幾秒鐘內,Leica DCM8便可沿物鏡景深的不同垂直點(diǎn)采集到多幅共聚焦圖像(必要時(shí)可自動(dòng)調整照明)。隨后刪除離焦信息,生成詳細的表面形貌輪廓圖。
精確
共聚焦傳感器頭中無(wú)移動(dòng)部件,大大提高了穩定性,降低了噪聲,從而可實(shí)現更高的分辨率。選擇高達0.95*的高數值孔徑(NA)和高放大倍率,可實(shí)現高達140 nm的橫向分辨率以及高達2 nm的垂直分辨率。因而,這種方法十分適合于眾多行業(yè)中的材料研究和質(zhì)量控制,包括汽車(chē)、微電子、醫學(xué)設備和航天等行業(yè)。
* 使用空氣以外的其它介質(zhì)可實(shí)現更高的數值孔徑(例如,水、油、甘油等浸液)
上圖所示為掃描圖像 晶片表面 金屬表面
使用高清干涉測量技術(shù)實(shí)現縱向分辨率
對縱向分辨率的要求高達0.1 nm時(shí),Leica DCM8干涉測量模式是絕佳的不二之選。該系統能夠分析平滑、超平滑和超級拋光表面,只需一臺系統,便可實(shí)現廣泛的應用。為滿(mǎn)足包括反光表面分析在內的不同需求,我們提供大量的高品質(zhì)干涉測量物鏡(5x、10x、20x、50x放大倍率)。
多種選擇
根據樣品形貌,可在三種干涉測量模式中進(jìn)行選擇:垂直掃描干涉測量術(shù)(VSI)(也稱(chēng)為白光干涉測量術(shù)(WLI))適用于光滑至粗糙度適中的表面;移相干涉測量術(shù)(PSI)適用于極度光滑的表面;擴展PSI(ePSI)適用于擴展Z分析范圍。對于粗糙度適中的拋光表面,VSI是進(jìn)行高速測量的理想選擇。與共聚焦模式類(lèi)似,逐步對樣品進(jìn)行垂直掃描,這樣表面上的每個(gè)點(diǎn)均可經(jīng)過(guò)焦點(diǎn),且大的干涉條紋對比出現在表面上每個(gè)點(diǎn)的焦點(diǎn)位置。通過(guò)檢定狹窄條紋包絡(luò )的峰值,可獲得每個(gè)像素位置的表面高度。
在不到3秒的時(shí)間內,PSI和ePSI可以亞納米分辨率獲取超級拋光和超光滑表面的紋理參數(例如光滑如鏡面的圓晶硅片)。為達到這一高分辨率,逐步對聚焦的樣品進(jìn)行垂直掃描,每一步都精確至波長(cháng)的幾分之一。輪廓成形算法可生成表面的相位圖,而相位圖可通過(guò)解卷繞步驟轉換成對應的高度分布圖。
晶片表面干涉測量掃描步驟
→
通過(guò)明場(chǎng)和暗場(chǎng)顯微鏡方便地實(shí)現圖像攝取
除了共聚焦和干涉測量形貌分析之外,Leica DCM8還提供明場(chǎng)和暗場(chǎng)成像功能,無(wú)論是彩色或黑白,圖像攝取都非常簡(jiǎn)單。明場(chǎng)可通過(guò)真彩圖像使您快速掌握樣品材料表面和實(shí)際位置的整體概況。而暗場(chǎng)有助于識別樣品的表面細節,例如,明場(chǎng)照明難以辨認的刮痕或顆粒。
陶瓷表面
四盞RGB高清成像LED,應用范圍更廣
Leica DCM8內置四盞LED:藍色(460 nm)綠色(530 nm)、紅色(630 nm)和白色(置中550 nm)。增加可用的顏色數(從而有更多可用波長(cháng))可以擴展應用范圍。例如,如果正在處理的是半導體晶片和光致抗蝕劑,由于這些樣品對藍光敏感,因此圖像攝取時(shí)可以選擇只使用紅光燈。
超銳利全彩圖像隨手可得
RGB LED結合高清CDD攝像頭,使Leica DCM8能夠生成相當于500百萬(wàn)像素攝像頭的超銳利全彩圖像。通過(guò)依次脈沖點(diǎn)亮LED,系統可以在每個(gè)像素中記錄全彩信息。使用帶拜爾(Bayer)濾鏡的標準彩色攝像頭時(shí),普遍無(wú)需色彩插值。樣品的圖像分辨率和對比度因而得到提高,實(shí)現晶瑩剔透、生動(dòng)逼真的視覺(jué)效果。白色LED可使白光干涉測量術(shù)得到進(jìn)一步提升。LED平均使用壽命極長(cháng),大約可達20,000小時(shí),這也是一項非常重要的優(yōu)點(diǎn)。
可使用三種方法測量厚薄不同的薄膜
Leica DCM8提供三種不同的厚度測量技術(shù):共聚焦模式、干涉測量模式和光譜反射計模式。共聚焦和干涉測量技術(shù)可用于測量透明層或透明箔的厚度,亦可用于測量層基底表面或層-空氣界面的厚度。厚度測量選項有單點(diǎn)、輪廓和形貌。選配的光譜反射計對于基底上的單層和多層箔、膜或薄層的測量效果佳,還可處理復雜結構(基底上多達十層的結構)。運用該技術(shù)還可有效測量10 nm至20 μm的透明薄膜。
配置和物鏡適用于您的樣品
光學(xué)品質(zhì)
Leica DCM8采用享譽(yù)世界的共聚焦、明場(chǎng)和暗場(chǎng)物鏡,放大倍率從1.25x至150x,適用于各種不同的工作距離,可滿(mǎn)足您的需求。如果您需要以高橫向分辨
率分析樣品,徠卡還提供高數值孔徑的油鏡可選。針對透明層之下的表面分析,徠卡帶修正環(huán)的專(zhuān)用物鏡可進(jìn)行透層調焦。
精選的物鏡核心部件 — 手工拋光鏡頭
此外,我們還提供放大倍率為5x、10x、20x和50x的各種多反射率(MR)干涉測量物鏡。這些尖端的多反射率物鏡:
• 可匹配樣品反射率,讓系統得到干涉條紋對比度,全力獲取各種樣品的表面特性
• 便捷的補償系統可在發(fā)生熱漂移時(shí)發(fā)揮作用
物鏡轉盤(pán)
為每項任務(wù)提供稱(chēng)心如意的光學(xué)部件
徠卡公司的光學(xué)專(zhuān)家還研發(fā)出了多反射率(MR)低放大倍率物鏡,可用于共聚焦和干涉測量,進(jìn)一步提高系統的靈活性,讓您的投資獲得大收益。如果您需要以極高的精確度執行重復作業(yè),徠卡還可為您提供單反射率(SR)物鏡,這種物鏡經(jīng)過(guò)專(zhuān)門(mén)優(yōu)化,具備良好的測量和成像性能。
干涉測量物鏡示例
根據需要量身配置
我們的電動(dòng)載物臺和立柱系列使大型樣品的處理變得極為方便,完全不再需要準備樣品或手動(dòng)調節。Leica DCM8可配置的的電動(dòng)載物臺尺寸為300 x 300 mm(包括XYZ操縱桿控件),Z立柱高可達1 m。如有其它要求,可聯(lián)系我們,商討定制配置。
適合于各種樣品的手動(dòng)和自動(dòng)載物臺系列
Leica DCM8采用流線(xiàn)型設計和微顯示器掃描技術(shù),傳感器頭無(wú)移動(dòng)部件,因此在過(guò)程控制應用中能夠方便地集成到其它系統中。為確保結果的穩定性和精確度,可根據實(shí)際空間將Leica DCM8安裝在工作臺頂部或落地式防振臺上。如有必要,甚至還可以將設備倒置安裝。
快速、簡(jiǎn)單、耐用 — 省時(shí)省力,節省資金,實(shí)現結果
在任何應用中,可靠、精確地確定表面特性都是先決條件,但在制造業(yè)中,為避免造成生產(chǎn)過(guò)程中斷(成本巨大),速度同樣至關(guān)重要。Leica DCM8可快速獲取表面數據和圖像,操作簡(jiǎn)便。直觀(guān)的軟件令分析變得更加簡(jiǎn)單,耐用的設計確保長(cháng)久的使用壽命和低持有成本。
無(wú)需準備樣品或切換儀器
共聚焦顯微技術(shù)和干涉測量技術(shù)相結合,明場(chǎng)和暗場(chǎng)成像功能錦上添花,使您從此無(wú)需再為不同的分析而費時(shí)切換儀器 — 只需輕輕一按,便可解決!它與其它表面特性測定方法的不同之處還在于,由于采用非接觸式掃描,因而無(wú)需準備或破壞樣品,便可以精確描繪大多數樣品的輪廓圖。從我們全面的物鏡產(chǎn)品系列中選擇工作距離適宜的物鏡,并搭配正確尺寸的載物臺和立柱,便可輕松適應不同尺寸的樣品。
快速、可靠的數字高清共聚焦掃描
Leica DCM8采用基于硅基鐵電液晶(FLCoS)的高清微顯示器技術(shù),可實(shí)現無(wú)振動(dòng)掃描,得到高再現性結果。這項創(chuàng )新技術(shù)在傳感器頭內部具有一個(gè)快速切換裝置,無(wú)需使用移動(dòng)部件。該設計可確保極其穩定的結果和優(yōu)異的噪聲消減,達到精確度和再現性令人驚艷的測量性能。不僅采集速度極快,還可實(shí)現實(shí)時(shí)共聚焦(每秒共聚焦幀數高達12.5),讓您以更高的效率直接處理實(shí)時(shí)圖像。另外,由于傳感器頭中沒(méi)有移動(dòng)部件,大大提高了儀器的耐用性,在超長(cháng)的使用壽命期間基本無(wú)需維護。
通過(guò)大視場(chǎng)和形貌拼接快速攝取大表面
Leica DCM8采用內置高分辨率CCD攝像頭,提供超大視場(chǎng)(FOV)。一次可攝取更多樣品表面,有助于優(yōu)化工作流程效率。
一覽無(wú)遺
在工業(yè)組件質(zhì)量控制中,不僅要求對樣品的較小區域進(jìn)行高分辨率測量,還要求對較大區域進(jìn)行快速掃描。為滿(mǎn)足這一需求,Leica DCM8提供了超快速XY形貌拼接功能。在該模式中,可自動(dòng)拼接所攝取的3D模型,組成遠大于單個(gè)視場(chǎng)的形貌圖像。表面數據會(huì )顯示一個(gè)大表面區域的高精度無(wú)縫模型以及對焦的紋理,同時(shí)又保留了較小區域的原始光學(xué)屬性?筛鶕䴓悠繁砻娴膸缀涡螤(從完全平整的表面到彎曲起伏的形貌)輕松應用不同的拼接算法。
直觀(guān)快速的軟件,適用于數據采集和分析
Leica DCM8使用LeicaSCAN軟件進(jìn)行控制。該軟件功能強大,基于圖標的界面可快速、直觀(guān)地進(jìn)行數據攝取和分析。LeicaSCAN 軟件提供多種預定義程序,在需要進(jìn)行大量測量時(shí),只需一鍵操作即可完成。另外,可使用多測量程序(MMR)快速準確地從不同XY位置攝取測量值,在相同位置重復測量,評估演變情況以及獲取統計信息。
簡(jiǎn)化復雜的3D分析
我們選配的LeicaMap軟件為高級3D分析提供全面豐富的表面參數和3D轉換,包括:步級高度和載重比、區域表面紋理參數(ISO 25178、EUR 15178)、橫截面輪廓的主參數和粗糙度參數(ISO 4287)、傅里葉分析、分形分析等等。在研發(fā)部門(mén)和實(shí)驗室中,LeicaMap尤其可在離線(xiàn)表面特性測定或生產(chǎn)過(guò)程中的近線(xiàn)控制方面大顯身手。
快速2D分析
在日常工作中,除了攝取和測量3D數據之外,常常還需要進(jìn)行詳細的2D分析。為滿(mǎn)足該需求,也可為L(cháng)eica DCM8搭載應用極廣的LeicaApplication Suite(LAS)軟件。LAS將系統的2D分析能力從普通的面積測量擴展到復雜的自動(dòng)幾何分析。
LeicaSCAN 軟件
常規技術(shù)參數
測量原理 | 非接觸式3D雙核光學(xué)成像輪廓測定法(共聚焦和干涉測量) |
功能 | 高清成像、高清3D形貌、輪廓、坐標、厚度、粗糙度、體積、表面紋理、光譜分析、色彩分析等 |
對比度模式 | 高清共聚焦、高清干涉測量(PSI、ePSI、VSI)、高清明場(chǎng)彩色、明場(chǎng)、暗場(chǎng)、實(shí)時(shí)高清RGB共聚焦 |
樣品高度 | 標準型:40 mm;包括可調立柱:150 mm;根據要求可提供更高的樣品高度 |
物鏡 | 共聚焦、明場(chǎng)和暗場(chǎng)模式下,放大倍率1.25×至150×;干涉測量模式下,放大倍率5×至50× |
物鏡轉盤(pán) | 6位手動(dòng)式物鏡轉盆/6位電動(dòng)式物鏡轉盆 |
載物臺掃描范圍(x、y、z) | 垂直:z=40 mm;水平:XY=100 x 75 mm(標準),或=300 x 300 mm。根據要求,可提供更大的載物臺 |
垂直掃描范圍 | 共聚焦40 mm,PSI 20 mm,ePSI 100 mm,VSI 10 mm |
照明 | LED光源:紅色(630 nm),綠色(530 nm),藍色(460 nm)和白色 |
圖像采集 | CCD黑白傳感器:1360 x 1024像素(全分辨率);黑白35 FPS真彩/共聚焦:3 FPS(全分辨率),10 FPS(半分辨率),15 FPS影像共聚焦 |
樣品反射率 | 0.1 % - 100 % |
尺寸和重量 | 長(cháng) x 寬 x 高 =573 mm x 390 mm x 569 mm;重量:48 kg |
工作條件 | 溫度:10°至35°C;相對濕度(RH)<80%;海拔高度<2000 m |
隔振 | 有源或無(wú)源(來(lái)源:成貫儀器) |
再現性 (50x 放大倍率) | 共聚焦/VSI:誤差 = 0.003 mm(3 nm);PSI:誤差=0.16 nm(0.00016 mm) |
精確度 (20x 放大倍率) | 開(kāi)環(huán):相對誤差<3%;閉環(huán):誤差<20nm |
共聚焦模式
物鏡放大倍率 | 1.25× | 2.5× | 5× | 10× | 20× | 50× | 100× | 150× |
數值孔徑 | 0.04 | 0.07 | 0.15 | 0.3 | 0.5 | 0.9 | 0.95 | 0.95 |
視場(chǎng)(μm) | 14032 x 10560 | 7016 x 5280 | 3508 x 2640 | 1754 x 1320 | 877 x 660 | 351 x 264 | 175 x 132 | 117 x 88 |
光學(xué)分辨率(X/Y)(μm) | 3.5 | 2.0 | 0.94 | 0.47 | 0.28 | 0.16 | 0.14 | 0.14 |
縱向分辨率(nm) | <3000 | <350 | <150 | <30 | <15 | <5 | <2 | <2 |
典型測量時(shí)間 | 3 - 5 s |
干涉測量模式
物鏡放大倍率 | 5× | 10× | 20× | 50× |
數值孔徑 | 0.15 | 0.30 | 0.40 | 0.50 |
視場(chǎng)(μm) | 3508 x 2640 | 1754 x 1320 | 677 x 660 | 351 x 264 |
光學(xué)分辨率(藍光)(X/Y) (μm) | 0.94 | 0.47 | 0.35 | 0.28 |
光學(xué)分辨率(白光)(X/Y) (μm) | 1.12 | 0.56 | 0.42 | 0.33 |
縱向分辨率(nm) | PSI<0.1;ePSI <1.0;VSI < 3.0 | |||
垂直掃描速度(μm/s) | VSI/ePSI:2.4 – 17 μm/s(來(lái)源:成貫儀器) | |||
典型測量時(shí)間 | PSI:3 – 6 sVSI:10 s;ePSI:30 s |
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